中微半導體設備 (上海) 股份有限公司（證券代碼：688012，簡稱 “中微公司”）于 2025 年 10 月 29 日發布 2025 年第三季度報告。報告顯示，公司前三季度業績持續高增，核心產品技術突破顯著，研發投入力度加碼，在半導體設備賽道的領先優勢進一步鞏固，為行業國產化進程注入強勁動力。

    根據報告，2025 年前三季度（1-9 月），中微公司實現營業收入 80.63 億元，較上年同期增長 46.40%；歸母凈利潤 12.11 億元，同比增長 32.66%，實現營收與利潤的同步高質量增長。

    單季度表現更顯強勁：2025 年第三季度（7-9 月），公司單季營收達 31.02 億元，同比增幅攀升至 50.62%，環比延續增長態勢，反映下游市場需求旺盛及公司產品交付能力提升。第三季度實現歸母凈利潤5.05億元，同比增長27.5%。

    盈利質量同樣亮眼。前三季度，公司經營活動產生的現金流量凈額為 12.98 億元，同比大幅增長 385.23%，主要得益于營業收入增長帶動的收款規模提升，現金流對業績的支撐作用顯著。此外，基本每股收益同比增長 31.08% 至 1.94 元 / 股，稀釋每股收益增長 31.51% 至 1.92 元 / 股，股東回報水平同步提升。

    從產品結構看，公司核心業務與新興業務協同發力，呈現 “主力穩增、新業務爆發” 的格局。

    刻蝕設備：國內高端市場標配地位鞏固

    作為公司核心收入來源，前三季度刻蝕設備實現收入 61.01 億元，同比增長 38.26%。其中，針對先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝、先進存儲器件超高深寬比刻蝕工藝的高端產品新增付運量顯著提升，已實現大規模量產。在 CCP（電容耦合等離子體）刻蝕領域，公司 60:1 超高深寬比介質刻蝕設備已成為國內標配，量產指標穩步優化；下一代 90:1 超高深寬比設備即將進入市場，技術代際領先性凸顯。ICP（電感耦合等離子體）刻蝕領域，適用于下一代邏輯與存儲客戶的設備及化學氣相刻蝕設備開發進展順利，加工精度與重復性已達到 “單原子水平”，為先進制程客戶提供關鍵支撐。

    薄膜設備：爆發式增長，性能達國際領先

    新興業務薄膜設備成為重要增長極。前三季度，LPCVD（低壓化學氣相沉積）、ALD（原子層沉積）等薄膜設備實現收入 4.03 億元，同比激增 1332.69%。目前，多款薄膜設備已順利進入市場，性能完全達到國際領先水平，客戶覆蓋率持續提升，成為公司突破半導體設備多品類布局的關鍵抓手。

    此外，公司硅和鍺硅外延 EPI 設備已運付客戶端開展量產驗證，并獲客戶高度認可；泛半導體領域，化合物半導體外延設備正加速開發，部分產品已陸續交付客戶端進行生產驗證，業務邊界持續拓寬。

    研發加碼：投入 25 億增 63%，兩年內推出新品成常態

    為鞏固技術壁壘、搶抓先進制程機遇，中微公司 2025 年顯著加大研發投入。前三季度，公司研發支出達 25.23 億元，同比增長 63.44%，研發投入占營業收入比例高達 31.29%，遠高于科創板平均水平，彰顯 “技術驅動” 的發展底色。

    從研發進展看，公司當前在研項目涵蓋六類設備、超二十款新設備，研發效率大幅提升 —— 過去需 3-5 年開發一款新設備，如今僅需 2 年或更短時間即可推出有競爭力的產品并落地市場。這一 “快迭代” 能力，不僅助力公司快速響應客戶需求，更有望在未來幾年加速、大規模推出多品類新產品，為長期增長奠定基礎。